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超快熒光光譜系統(tǒng)-UF100
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產(chǎn)品分類article
相關(guān)文章超快熒光光譜系統(tǒng)-UF100主要技術(shù)指標(biāo)
檢測(cè)方法 條紋相機(jī) 熒光上轉(zhuǎn)換 | 克爾門 | ||
時(shí)間分辨率 | ≤3.5 ps | ≤450 fs | ≤1 ps |
時(shí)間窗口 | 100 μs | 8 ns | 8 ns |
光譜探測(cè)范圍 | 250-850 nm | 360-900 nm | 400-800 nm |
探測(cè)器 | 條紋相機(jī) | 高靈敏PMT 線陣制冷CCD | |
采譜方式 | 寬譜采集 | 動(dòng)力學(xué)掃譜 寬譜采集 | |
軟件 | 數(shù)據(jù)采集/分析軟件 |
可拓展模塊
微區(qū)檢測(cè)模塊 | 空間分辨率≤500nm \ | \ |
超快熒光光譜系統(tǒng)-UF100應(yīng)用實(shí)例
·條紋相機(jī)檢測(cè)
實(shí)驗(yàn)條件
樣品名稱 | CVD單層WS2 | 激發(fā)光波長(zhǎng) | 515 nm |
大連創(chuàng)銳光譜科技有限公司基于自主創(chuàng)新的時(shí)間分辨光譜技術(shù),致力于推動(dòng)光譜技術(shù)在科研和工業(yè)領(lǐng)域的深入應(yīng)用。在科研儀器領(lǐng)域,創(chuàng)銳光譜由一線專家?guī)ш?duì),是目前國(guó)內(nèi)極少具備瞬態(tài)光譜獨(dú)立研發(fā)-生產(chǎn)-應(yīng)用完整能力體系的團(tuán)隊(duì)。創(chuàng)銳光譜以時(shí)間分辨光譜核心技術(shù),超快瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng)為核心產(chǎn)品,打破進(jìn)口壟斷格局。主要產(chǎn)品包括瞬態(tài)吸收光譜系統(tǒng)、共聚焦熒光成像系統(tǒng)、DPSS納秒激光器及高速探測(cè)器。在工業(yè)半導(dǎo)體檢測(cè)領(lǐng)域,公司以光譜技術(shù)創(chuàng)新為核心立足點(diǎn),已迅速完成碳化硅襯底、外延、氮化鎵、鈣鈦礦電池等多領(lǐng)域布局。